國家科學及技術委員會科學園區審議會第1次會議於今(11)日召開，會中通過中科1件投資案，為積體電路之鴻鎵科技股份有限公司中科分公司，投資額總計新台幣2億元。
鴻鎵科技股份有限公司中科分公司(設立於中部科學園區之台中園區)
本案投資金額約為新台幣2億元，研製第三代半導體─氮化鎵功率磊晶片及氮化鎵功率電晶體等產品，本案公司除自有技術外，並獲日本NTT-AT技轉磊晶技術，從晶片到終端產品，設計、生產、銷售結合多家廠商一貫作業，產品應用於太陽能儲能、新能源車、工業自動化及5G高頻通信等產業，有利於促進中台灣形成高科技產業聚落。
依據TrendForce研究預估，氮化鎵功率元件主要應用為消費性產品，至2025年市場規模將達8.5億美元，2020-2025年複合成長率高達78%，具有相當市場潛力。