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- 透過支援半導體需求驟增的最新技術提升產能 -

栃木縣小山市--(BUSINESS WIRE)--(美國商業資訊)--2021年10月26日,半導體微影光源製造商Gigaphoton株式會社(總公司:栃木縣小山市;總裁:浦中克己)宣布,最尖端的ArF濕浸式微影光源「GT66A」已在世界半導體廠正式運作中。


近年來,全球急速增加的電子產品和雲端設備需求趨勢下,用於這些產品和設備的半導體需求也在激增。再者,由於DX逐步深入到企業,以及為了邁向碳中和社會的EV增產和轉換為可再生能源等,半導體在社會基礎設施中扮演樞紐的角色,因此更進一步帶動半導體的需求。特別是自動駕駛和高性能伺服器 ,這種同時具備高速運算和低耗電的高端設備需求的成長,更加速了半導體的需求。
GT66A是支援這種高端設備專用半導體所需5nm節點,以及生產新世代節點的機種。
此外,GT66A透過降低 (30%) 光斑對比值,以減少佈線和光阻劑曝光圖樣偏離的 EPE。可望藉此抑制顯示壁面微細圖樣凹凸尺寸的LER,以及顯示因凹凸產生圖樣寬幅偏差的LWR,以提升成品率 (yield)。再加上導入高耐久性零組件,將維修週期延長30%,以提升裝置可用性,並可實現超高產能。

Gigaphoton總裁兼CEO浦中克己表示:「GT66A以穩定生產最尖端半導體及高成品率為指標,特別鎖定提升最尖端製程節點產能之下投入市場。Gigaphoton往後也將繼續透過活動,以利求整體半導體廠的產能最大化。」

Gigaphoton公司簡介
作為開發和生產微影DUV光源先驅企業的Gigaphoton,從成立初期便對全球半導體製造商,提供運用最尖端技術的多項解決方案。此外,也積極投入於開發EUV光源。作為具備豐富知識的專業集團,始終站在用戶立場的Gigaphoton,將繼續從產品研發到生產、銷售及維護,為用戶提供業界最高水準的支援。
更多詳細介紹請參閱https://www.gigaphoton.com/ct/


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