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公司將在半導體微影技術盛會上發表論文
日本小山市--(BUSINESS WIRE)--(美國商業資訊)--半導體微影光源製造商Gigaphoton株式會社（總部：栃木縣小山市，董事總經理兼執行長：Katsumi Uranaka）將參加於太平洋標準時間2023年2月26日（星期日）至3月2日（星期四）在加州聖荷西舉行的SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023大會。
Gigaphoton將介紹有助於提高產能的尖端技術，以及採用DUV光源技術永續性解決方案。此外，Gigaphoton還將介紹EUV光源的研發進展。
* 如果您希望在您的材料中引用這些論文，請聯絡我們。
口頭演講： |
1) 透過領先的浸潤式光源同時改善邊緣放置誤差(EPE)和可用性 [論文編號：12494-44] |
2) 半導體製造的電漿動力學和LPP-EUV光源的前景 [論文編號： 12494-45] |
論文： |
3) LPP-EUV光源關鍵組件的開發進展 [論文編號：12494-51] |
4) 工程維護決策用的機器學習準分子雷射性能模擬器的開發 [論文編號： 12496-101] |
5) 利用ArF浸潤式微影的最新光源GT66A，實現一流可用性，為永續發展做出貢獻 [論文編號： 12494-60] |
關於GIGAPHOTON
GIGAPHOTON公司成立於2000年，作為一家半導體微影光源的供應商，自成立以來一直為全球的半導體生產廠商提供有價值的解決方案。GIGAPHOTON時刻以客戶為中心，從產品研發到生產、銷售及維護，為用戶提供業界頂級水準的支援。如需瞭解更多資訊，請造訪https://gigaphoton.com/
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